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光刻机

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光刻机

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产品描述
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性能指标
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名称：光刻机

型号：BG-406/6S

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主要由对准工作台、紫外曝光系统、顶部CCD观察对准系统、底部显微镜系统、显微镜扫描系统、曝光系统移动系统、电气控制系统、汞灯电源系统组成。

性能名称

技术指标

备注

工作台行程

Ｘ向

±5mm    

 

Y向

±5mm    

 

Z向

10mm

 

θ向

±5°

 

适用基片尺寸

Max 6″（φ150 mm）

 

适用掩模版尺寸

Max 7″（175×175 mm）

 

对准精度

正面对准

±1um

 

背面对准

±4um

 

顶部显微镜

放大倍率

30×～300×

CCD连续变倍

物镜倍率

0.75×～5×

 

物镜分离量

40～145mm

 

底部显微镜

物镜

10×

 

物镜分离量

40～140mm

 

曝光光源

UV365，500W超高压汞灯

 

曝光面积

φ160mm

 

曝光分辨率

1.5 um（胶厚≤1 um，正胶、真空接触）

 

光强

≥20mW/cm2

 

曝光不均匀性

±5%

 

曝光时间

0～999.9s

 

整机功率

2KW

 

设备外形尺寸

1300（长）×1100（宽）×1650（高）

 

重量

450kg

 

主要用于集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制和生产。

▲请查看：收费标准

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